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分享 metal density and metal slot 作用(zz)
fanasy 2008-3-17 14:30
A). 在相同的刻蚀条件下及抛光处理(polishing)过程结束后,原本Layout(版图)上 metal density较低的区域(local area),对应在wafer上此时的metal的厚度要相比metal density较高区域的薄。故直接影响到wafer的平坦度,从而影响后续工序的精准度,造成 IC之电性不良、直接影响wafer的良率(yield)。《〈此种情形就是上 ...
4482 次阅读|0 个评论 热度 1
分享 mom cap和mim cap的区别
fanasy 2008-3-7 11:31
mom cap ( metal oxide metal cap) 从字面理解是利用了不同层次metal之间的oxide做电容的介质层,可以减少面积 mim cap (metal insulator metal cap) 从字面理解是利用了相同层次metal之间的insulator做电容的介质层.面积比较大,但是用到的metal就只有一层,可以减少mask数量. 在相同的电容值下,mim cap面积更大. & ...
21228 次阅读|3 个评论 热度 2
分享 解决问题途径的选择
fanasy 2008-3-6 20:04
今天edif的问题,是一个在最新ic5141版本已经出现状况后,没有继续关注,寻找了另一个方法绕过了IC5141的情况下,出现的IC50 的一个从未遇到过的问题,研究了几个小时都未果,到我再回头看IC5141时,发现了edif out的特殊设置,是一种解决问题的习惯驱使我去观察IC5141出edif时是否有一些设置.希望自己能一直保持这种好奇心时的细 ...
624 次阅读|1 个评论
分享 cadence5141和cadence5030 edif out的区别
fanasy 2008-3-6 16:55
在50里,edif out 不需要修改设置 在5141里,edif out需要设置 cdf as property output file.如果默认无此设置,会造成出edif 200,没有l或者w值.
1319 次阅读|1 个评论
分享 杨子"三把火"(转载)
fanasy 2008-3-5 09:57
我 们上回博客中说道,我忍耐着应该忍耐的一切,努力把压抑的心情转化成前进的力量,按照心中的“五步”方针,循序渐进按部就班的朝着心中的目标迈进,当“五步”实施完毕的时候,出手的时机也就到了,因为总压抑、忍耐、观察绝非长久之计,我觉得在这个“五步”过程我已经完全获得了我所需要的一切,特别是从 第一步 ...
536 次阅读|0 个评论
分享 竞争力讨论体会
fanasy 2008-3-4 19:34
其实,人的寿命差不多,人的智商也不会差太多,所有后起的国家能超过发达国家,但是一群人和另一群人做的东西,之所有有高低之分,无非在至于,比谁更努力,比谁更用合理实用高效的方法.台湾人上比欧美人更吃得了苦,更勤奋,台湾的企业能打赢欧美的芯片设计公司,大陆企业也要和台湾企业竞争比更是合理是用高效的方法,毕竟大家都很勤 ...
362 次阅读|0 个评论
分享 要把握自己的方向
fanasy 2008-3-4 18:20
要努力把握自己的方向,不要让路边的景色,耽误甚至断送了你长久的目标,要镇定.
387 次阅读|0 个评论
分享 自动化操作与自动化操作的隐患
fanasy 2008-3-4 14:32
在工作中越来越多的用到perl等一些脚本语言,是工作更加的自动化,减少人为重复的操作,但是如果刚写完的perl,去用到一些比较重要的case中时,比如 tape out check时,会带来一些编写脚本时,未考虑完善所造成的隐患.所以,一边使用,一边验证,是比较好的方法.如何较少验证的次数和case数,这其中一些规律性的东西,还需要在实践中去 ...
536 次阅读|0 个评论

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