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当我们需要开始采用一个新的半导体工艺时,第一件事就是需要开发一套PDK,PDK用代工厂的语言定义了一套反映foundary工艺的文档资料,是设计公司用来做物理验证的基石,也是流片成败关键的因素。PDK包含了反映制造工艺基本的“积木块”:晶体管、接触孔,互连线等,除PDK的参考手册(Documentation)外,PDK的内容还包括:
器件模型(Device Model):由Foundry提供的仿真模型文件
Symbols & View:用于原理图设计的符号,参数化的设计单元都通过了SPICE 仿真的验证
CDF(Component Description Format,组件描述格式) &
Callback:器件的属性描述文件,定义了器件类型、器件名称、器件参数及参数调用关系函数集Callback、器件模型、器件的各种视图格式等
Pcell(Parameterized
Cell,参数化单元):它由Cadence的SKILL语言编写,其对应的版图通过了DRC和LVS验证,方便设计人员进行Schematic
Driven layout(原理图驱动的版图)设计流程
技术文件(Technology
File):用于版图设计和验证的工艺文件,包含GDSII的设计数据层和工艺层的映射关系定义、设计数据层的属性定义、在线设计规则、电气规则、显示色彩定义和图形格式定义等;
PV
Rule(物理验证规则)文件:包含版图验证文件DRC/LVS/RC提取,支持Cadence的Diva、Dracula、Assura等。
在开发PDK的演进中,有些事情在慢慢变化着:一是virtuoso
不再是这个领域唯一的玩家,所有主要的EDA厂商都纷纷给出了自己的解决方案,但没有一家EDA工具能读写Virtuoso的PDK。Virtuoso的PDK是采用Cadence的SKILL语言开发的,目前没有将其公开化。二是设计规则变得如此复杂,以至于开发一套特定工艺的PDK花费巨大。相应的开发针对不同版图编辑器的PDK更是需要很多的经验,但此项工作又不能给代工厂或用户带来实际的利益。
由于Cadence不愿意公开他的PDK(也称PCell),iPDK作为一个PDK标准渐渐走入人们的视线。这是由IPL(Interoperable
PDK Libraries Alliance)组织发起,联合TSMC,采用Ciranova's
PyCell(基于Python而非SKILL语言)开发出的一套新PDK标准。目前被各大EDA厂商的版图编辑器所支持,尽管Virtuoso没在官方表态,实际上也在偷偷的支持这一标准。也行这就是商业利益使然吧。
也许一个标准是好的,两个就更好了?实际上并非如此。还有另一个便携式的PDK——OpenPDK。在Si2大伞的庇护下,在极力推广,但这一项目自去年展开以来,至今还未有实际的PDK采用此标准。OpenPDK采用OpenAccess数据库,设计成支持各种格式的工艺数据库,而不需要各EDA工具在内部实现Openacess。
精彩的故事于是上演了,那谁能主PDK沉浮呢?iPDK被视为TSMC的标准,GlobalFoundries以及他们那帮“common
platform”哥们当然不会买它的帐,他们只支持Virtuoso
PDK。不过这以壁垒也增加了他们的客户试图从TSMC以及其客户那里窃取技术机密的难度。
在其他EDA公司看来Si2与Cadence走得太近了,如OpenAccess and
CPF本就是Cadence的产品,只不是经由Si2摇身一变成了开放标准了。所以不得不怀疑Cadence是否有兴趣公开PDK这一标准,因为除了Virtuoso
PDK还没有第二个标准能与之相争,真是:倚天不出,谁与争锋,倚天在何方?