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Sage_q 2025-5-8 15:21
本征半导体: 看不到啊，好像给你和谐了
站内留言板的审核机制有些慢，主要是不太理解因为mask123本身作用为开PMOS下SOURCE/DRAIN端的开口，为何DCAP过多反而会导致density报错，DCAP中增加的PMOS管不应该反而会导致S/D开口增加吗？如果可以跟您简单通话请教就更好了，麻烦您了
Sage_q 2025-5-8 14:10
打扰您了 下午好！我在“tsmc28nm工艺DRC SSD.DN.1问题”帖子里看到了您对解决该violation的方法建议，有些不太理解的地方还想再详细请教一下，非常感谢！
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