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① 在Cadence下:
File→Export→EDIF 200...→Browe选择文件→Output File 改名→OK
导出edif ,out后叫经理导入到共享,再从共享拉到桌面。
② 在ChipAnalyzer下:
文件→导出EDIF 200网表格式。
在D/Chiplogic Family/ChipAnalyzer/Bin下找到导出的网表文件。
在D/Chiplogic Family/ChipMaster/Project下复制多一个AnalogLib1,再建多一个数字电路的文件夹,只要Symbol。
③ 在ChipMaster下:
新建单元库→导入***.out文件→删除多余单元→再导入***.edif文件→打开顶层文件。
设置顶层文件(右键→设置为顶层文件)→电路→显示线网列表窗口→全选后右键→自动标号化长引线...→填写引线长度阈值→回到顶层文件→调整间距→导出EDIF 200→放到共享上叫经理导入Cadence。
(去掉提图中的悬空线头:工具→选项→单元数阈值:0)
④ 在Cadence下:
导入EDIF 200。
设置点亮线加粗CIW窗口的Tools→Display Resource Manager...→Edit→Layers下选LSW→分别设置y1 drawing,y2 drawing,y3 drawing……的Line Style。
查找单元器件(电路)Edit→Search→Final
长出nplus\pplus(铝栅)(先画上area层)Verify→DRC→设置Rules File文件(gate.rul)→OK
加载技术文件Tools→Technology File Manager...→Attach...
回原点Edit→other→Move Origin
基于Dracula的LVS① 建立文件
单独建一个run LVS文件夹,在这个文件夹里导入版图的***.gds文件;电路的***.cdl文件;复制好规则文件***.lvs
① vi ***.lvs改写两项
PRIMARY=版图文件名;
INDISK=版图文件名.gds;
② LOGLVS
→Cir netlist(cdl文件名)→con ...(电路名)→x→PDRACULA→/g ***.lvs→/f→jxrun.com
③ vi lvs.lvs(打开lvs文件,检查错误)
layout里自动变换成当前Library复制layout→To下的Library改成目标Library→勾选Copy Hierarchical 和Update Instances→OK→选Overwirte All(覆盖)或Fix Erros(命名)→OK
修改Netlist搜索:/NP→(大写N向上翻,小写n向下翻)查找所有NP→:%/NP/PM/g→:wq
range 指范围,1,7指第一行至第七行,1,$指从第一行至最后一行,就是整篇文章, 也可以%代替。%是目前编辑的文章,#是前一次编辑的文章。
pattern 指要被换掉的字串,可以用regexp来表示。
string 将Pattern由String所取代
c Confirm,每次替换前询问
e 不显示error
g globe,不询问,整行替换前询问
i ignore不分大小写。
LVS跳线设置LVS Options→Connect→勾选Connet nets with...(:)
打开Calibre运行LVS、DRC在/home/lcm 0315下Vi .bashrc→复制/user/local/eda/……/license.dat到/home/lcm0315→回车运行
华润工艺转换方正工艺在做好的Library下:cell复制cell_copy→打散cell_copy→T2改成A2→新建Library→再复制打散的cell_copy到新Library下→在cell_copy上生长gate.rul(最好单独一层)→跑DRC→根据错误,在原Library的cell里改错→再重复转换步骤,如此往复,直到修改完成。