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gmid曲线的扫描方法

已有 212 次阅读| 2024-5-29 15:28 |系统分类:芯片设计

一、扫描量说明

含义

公式

calibrator公式

跨导效率

gm/Ids

OS("/M0" "gmoverid")

电路密度

Ids/W

waveVsWave(?x OS("/M0" "gmoverid") ?y (OS("/M0" "ids") / VAR("W_sweep")))

截止频率

ft=gm/(2Π*Cgg)

waveVsWave(?x OS("/M0" "gmoverid") ?y (OS("/M0" "gm") / (2 * 3.14 * OS("/M0" "cgg"))))

本征增益

gm/gds

waveVsWave(?x OS("/M0" "gmoverid") ?y (OS("/M0" "gm") / OS("/M0" "gds")))

本征增益

self-gain

waveVsWave(?x OS("/M0" "gmoverid") ?y OS("/M0" "self_gain"))

二、NMOS扫描

扫描之前最好仿真下管子的阈值电压。这里使用tsmc .18 nmos3v管子,Vth=786mV。

我们固定管子的W,L,Vds,将Vgs设为变量进行扫描,扫描的范围:Vth-50mV<Vgs<1.5V。这里解释下,为什么Vgs的下限不是0而是Vth-50mV。因为Vgs从0开始扫,管子在很长范围内是截止的,不是我们关系的工作区。Vth-50mV,可以观察到管子位于弱反型区。


原理图如下:

image.png


image.png

image.png

image.png


三、进行参数扫描

注意:ID/W曲线的纵坐标选择:log scale

image.png

image.png


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