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ESD管的D端需要使用SAB层提高漏端的电阻率以应对ESD;
ESD管D端同时也需要加宽,形成足够宽度的漂移区以承受电压;
D端的CT与栅端也需要加大,使漏极的镇流串联电阻变大,以此应对ESD,防止击穿;
如果是靠 breakdown 启动寄生BJT,達到ESD洩流,就要加 ESD implant layer,降低NMOS的BV电压;
如果是用 RC trigger power-clamp NMOS 就不需要;
一般情况下ESD管的D端在中间,S端在两边,原因如下:
D端远离tap,等效电阻大,流过相同电流后的电压降就大,有利于寄生PN结(DB)正偏,从而有益于寄生bipolar的开启;
若D端在两边,会使得两边与中间的D端环境不一致,两边的D端面对3边tap,中间的面对2边tap;
若D端在两边,当DB的pn结导通时,导通电流不但会被source端的pn结吸引,还可能被侧面的guardring那些pn结吸引,使得电流流向tap,烧毁tap。
ESD管不宜设计过大的L和过多的finger,容易使得每根finger的开启时机不一致,使得电流集中在其中一部分finger,烧毁器件;
ESD的S/D端走线线宽要粗且均匀,多数走叠层,打孔尽量多且重叠直穿,线的过流能力需要满足设计要求。