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MOS工作区域

已有 313 次阅读| 2022-8-29 14:16 |个人分类:模拟IC学习记录|系统分类:芯片设计

MOS管有多种工作区域

1.截止区

VGS-VTH≤0,

此时iD=0


2.非饱和区

VGS-VTH>0,且0<VDS≤VGS-VTH,

此时iD=K'(W/L)*[(VGS-VTH)-(VDS/2)]*VDS


3.饱和区

VGS-VTH>0,且VDS>VGS-VTH

此时iD=K'(W/2L)*[(VGS-VTH)^2

若考虑沟道长度调制效应,电流为iD=K'(W/2L)*[(VGS-VTH)^2(1+λVDS)


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