已有 313 次阅读| 2022-8-29 14:16 |个人分类:模拟IC学习记录|系统分类:芯片设计
MOS管有多种工作区域1.截止区
VGS-VTH≤0,
此时iD=0
2.非饱和区
VGS-VTH>0,且0<VDS≤VGS-VTH,
此时iD=K'(W/L)*[(VGS-VTH)-(VDS/2)]*VDS
3.饱和区
VGS-VTH>0,且VDS>VGS-VTH
此时iD=K'(W/2L)*[(VGS-VTH)^2
若考虑沟道长度调制效应,电流为iD=K'(W/2L)*[(VGS-VTH)^2(1+λVDS)
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