日志
density对良率的影响：简记
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铝工艺：
先淀积整块铝，再刻蚀成连线
如果density过高，刻蚀的时候很容易有残留（大概是因为刻蚀时间短/刻蚀液浓度低）
如果density过低，很容易过刻蚀
铜工艺：
先长SiO2,再根据连线长金属
如果density过高，CMP的时候很容易过刻蚀
如果density过低，很容易残留
density check:
chip density
local density
临近窗口的density差距也要在一定范围内。
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铝工艺：
先淀积整块铝，再刻蚀成连线
如果density过高，刻蚀的时候很容易有残留（大概是因为刻蚀时间短/刻蚀液浓度低）
如果density过低，很容易过刻蚀
铜工艺：
先长SiO2,再根据连线长金属
如果density过高，CMP的时候很容易过刻蚀
如果density过低，很容易残留
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chip density
local density
临近窗口的density差距也要在一定范围内。
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