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数字工艺库
这是笔者在本系列文章“工具及书籍文档”篇贴出的连接http://bbs.eetop.cn/thread-611843-1-1.html,
该库为数字电路会用到的库,也就是说不包含模拟电路所需要的库,对于该库,有些内容笔者也不是很清楚,请大家包涵。
下载解压之后如下图:
Fig.工艺库图1
Fig.工艺库图2
注意文件路径。
工艺库的组成结构
该工艺库有一点过时了,但不妨碍我们学习。
Astro:该文件夹所包含的文件原本是提供给synopsys的astro自动布局布线软件工具使用的,由于synopsys已经把astro升级为ICC,所以说它就有点过时了。如下图,
Fig.工艺库图3
其中,clf文件夹包含有关版图时序(time)、功耗(power)、寄生电容电阻参数的文件,4lm、5lm、6lm,是指4、5、6层金属所用到的文件。其它还有诸如1P3M,1P4M等之类的字母指的是一层poly,3层金属的工艺,依次类推。,有关版图的金属层次,需要视具体的项目而定的。tt、ff、ss指的是工艺角,t=typical,f=fast,s=slow,换句话说tt代表该文件对应于典型的PMOS管和NMOS管模型,ff代表该文件对应于快速的PMOS管和快速的NMOS管模型。如下图:
Fig.工艺库图4
回到上一层文件夹,其中, smic18m_fram是版图库文件,所有门级网表对应的单元CELL都在这里面,CEL代表标准单元库文件,FRAM代表金属层次,PWR就是电源(POWER)的缩写,其实并不用管这里的文件是什么,在自动布局布线软件中,直接载入这些文件就行了。如下图:
Fig.工艺库图5
回到上一层文件夹,tf文件夹所包含的是工艺技术库,也就是工艺规则库文件,分别对应的是4、5、6层金属所采用的工艺规则。注意,不是第四、第五、第六层的工艺规则,而是,当整个芯片采用4层金属制造时,就使用4层工艺规则进行布线,当整个芯片采用5层金属制造时,就使用5层工艺规则进行布线。这也是需要加载到自动布局布线工具中的。如下图:
Fig.工艺库图6
Doc:工艺库的使用文档说明,这个没什么好说的。
Lef: 该文件也是自动布局布线工具所使用的物理版图库,只不过是cadence公司的encounter(最新版本为EDI)工具所使用的物理版图库。同样也是为4、5、6层金属的工艺各提供一份工艺文件,另外macros这个文件很重要,在使用encounter载入工艺库文件时,该文件必须首先载入,不然会报错。(信息来源于《CMOS集成电路后端设计与实战》)。再补充一句,LEF文件是可以通过某个工具转换为ICC使用的milkway工艺库的,有兴趣的可以去EETOP上搜索相关教程。如下图:
Fig.工艺库图7
Primetime: 该文件提供为Primetime使用的文件,未必用得到。
Symbols,synopsys:
symbols是符号库,主要用于DC综合时,查看综合的电路结果图时需要用到。Synopsys该库非常重要,说它贯穿了整个自DC以后的所有后端流程都不为过,让我们来详细的说一说,它究竟重要在哪儿。首先,DC综合需要用到该库,其次,PT静态时序分析需要用到该库,再次FM形式验证也需要用到它,最后ICC/Encounter自动布局布线还需要用到它。由此可见该库的重要性。Synopsys库包括了标准单元的时序信息,功耗信息(泄露功耗,开关功耗,短路功耗),线负载模型等等,此外还分别提供ff、ss、tt,0(温)度(0c)、25度(25c)、125度(125c)下的标准单元的各类模型参数,是整个数字设计的核心。.db文件可以通过.lib文件转换得到,它们就是Synopsys库。.pdb文件可以通过.plib转换得到,关于.pdb和.plib,以前synopsys提出了物理综合的概念,对应工具为physical complier,对应的文件为.pdb和.plib文件,后来synopsys将astro和physical complier合并成了ICC,所以,pdb/plib文件就过时了。现在已经不会用到它了,较老的书籍仍然会提到物理综合的概念。如下图:
Fig.工艺库图8
verilog,Vhdl:该文件包含的是用verilog,VHDL语言建模的标准门级单元的模型,它们主要用于版图后仿真,这个并没有太多可以说明的。
至于笔者没有提到的某些文件,还请大家补充,谢谢!
模拟工艺库
这里简单介绍一下有关模拟工艺库的相关信息。如下图:
Fig.工艺库图9
Asssura:该文件夹内的文件是提供给cadence公司的assura软件用于版图的DRC、LVS等规则检查用的文件。
Docs:该文件夹包含工艺库相关信息。
Models:该文件夹包含hspice,spectre仿真文件,其中spectre是cadence公司专用的仿真文件,目前我还没看到除了cadence家的软件外,哪家公司还在用,hspice仿真文件用途就比较广泛了,cadence的软件集成了hspice仿真器,因此也可以使用hspice模型进行模拟电路仿真。Hspice软件、nanosim软件等软件均采用hspice仿真模型进行模拟电路仿真。设计模拟电路都需要这两者之一的文件进行仿真。
smic13mmrf_1225:提供版图库基本单元的文件,模拟版图使用。
Stream:暂不清楚什么用处。
Display.drf:版图设计规则文件,在cadence中新建版图时需要加载的文件。
模拟工艺库大体就是这些文件,另外,mentor公司的calibre是更多公司用于版图DRC、LVS检查用的软件。所以,有些工艺库还提供calibre所使用的DRC、LVS文件。
插图见附件。