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在I/O库的测试中发现了latch up现象,testchip当中有I/O cell,power clamp和gournd cell,因为该库是应用1.8V的device工作在3.3V power supply下,所以所有器件都是叠管结构,其中power clamp cell的放电通路是两个叠在一起的NMOS。测latch up的过程中从I/O(此时I/O处于高阻态)的pad端抽负20mA的电流时,power supply上显示电流从0mA跳变到600mA左右,当trigger电流断开时,power supply上的大电流依然存在,现象和latch up现象吻合。EMMI分析结果显示电流产生在clamp cell的叠管NMOS上。现在问题来了,clamp cell的NMOS周围没有传统的能引起latch up的PNPN或者NPNP结构,距离最近的NWELL大概8um多,而且有double GR,如图显示,到底latch up是怎样发生的呢?求大神帮忙
Handsome_Hou: 可能是 NMOS 自己的雪崩击穿, bulk 电阻比较大,IR 可以提供寄生 BJT 的 VBE 电压。像温德通的《CMOS集成电路闩锁效应》,图 4-15 那种。我刚刚接触 LU,如果不 ...