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巨人的步伐：Intel 2017年迈向7nm工艺

已有 3208 次阅读| 2011-6-11 01:13 |个人分类:技术发展

巨人的步伐：Intel 2017年迈向7nm工艺
作者：上方文Q 编辑：上方文Q


Intel技术与制造事业部副总裁、元件研究主管Mike Mayberry今天公布了一份半导体工艺路线图，展示了Intel在未来几年的制造工艺规划情况。按照这份路线图，Intel的半导体工艺将继续严格执行Tick-Tock策略，每两年升级一次。目前正在开发的是22nm工艺，预计下半年量产、明年上半年发布。接下来，2013年就会转入14nm，2015年继续进步到10nm。再往后到了2017年的时候，Intel将为我们带来7nm，这也是半导体工艺第一次进入个位数时代。至于2019年到底采用何种工艺，Intel仍在研究之中。为了保证这种稳定而快速的前进脚步，Intel时刻都在关注和选择最新的半导体制造技术，未来几年的主要研究对象有3-D三栅极晶体管、III-V族复合物、光学互连、计算光刻、高K锗、原材料合成、高密度内存、纳米线等等。半导体制造技术的研究方向目前的关注重点互连方面亟待革新多重选择十几年下来，Intel工艺的每次升级都能带来30-40％的进步幅度，强大的研发实力令人羡慕，摩尔定律的神话也一直被延续下来。也许正如Intel说的那样：“摩尔定律并不是自然规律，而是一种持续创新的期望。”