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半导体 | 光学缺陷检测

已有 308 次阅读| 2025-1-8 20:26 |系统分类:芯片设计

半导体中缺陷检测是半导体制造过程中不可或缺的环节,对于提高产品良率、降低成本、提高生产效率、保障安全性和促进技术进步都具有重要意义。如集成电路和芯片,是由数以亿计的微小晶体管组成的,这些晶体管的尺寸和结构对器件的性能有着决定性的影响。缺陷的存在会严重影响半导体器件的性能和可靠性,因此,检测和控制这些缺陷是保证产品质量的关键。

01

常见缺陷类型

半导体缺陷检测包括:
◼ 光学有图形缺陷检测,包括断线(break)、线边缺陷(bite)、桥接(bridge)、线形变化(deformation)等; 
◼ 光学无图形缺陷检测,包括颗粒物(particle)、残留物(residue)、刮伤(scratch)等;
◼ 掩模版缺陷检测;
◼ 电子束缺陷检测;

◼ 缺陷复查(光学及电子束),针对检测设备检出的缺陷,使用光学显微技术或扫描电镜技术确认其缺陷细节。

02

缺陷检测产品

晶诺微缺陷检测设备 PULSAR 系列包括 L 系列和 H 系列,PULSAR L 系列及 PULSAR H 系列是应用于电子、半导体工业领域的如 WLP(晶圆级封装)、PLP(面板级封装)、晶圆制造前端工艺等,可实现从低分辨率到高分辨率的缺陷检测、分类、定位测量等功能。

1)产品特点

● 多种分辨率,最高分辨率达 0.1um;

● 测量速度快,产能可以到 6pcs/hr(6inch,0.2um分辨率下),检出率 95%

● 设备稳定性和可靠性高;

● 自动缺陷分类、自动缺陷图像存储、自动及手动缺陷复查;

● 高速、高数据率和高灵敏度图像处理系统;

● 亚像素的分辨率(1/10 像素);

● 可灵活扩容图像处理吞吐能力。

2)产品规格

3)光学系统

● 高速 TDI 线阵扫描;

● 实时自动聚焦;

● 高分辨率:分辨率低至 0.5um ;

● 支持多倍率镜头自动切换。

4)运动系统

● 多轴运动平台

● 高精度,XY 重复性 ±0.5um 

● 高性能



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