日志

2023-07-13

已有 5666 次阅读| 2023-7-13 23:24 |个人分类:cadence 软件学习|系统分类:芯片设计

2023/7/13

如何在顶层填充Dummy Metal和Dummy OD/PO以满足DRC density要求？

需要准备的文件：

1、需要填充的top版图；

2、相关填充Dummy Metal和Dummy OD/POLY 的rule文件。

因为填充Dummy Metal和Dummy OD/POLY的方法一样，故这里以填充Dummy Metal为例详细介绍相关步骤。

打开需要填充的版图，运行Calibre—nmDRC，弹出相应对话框；

步骤1：

Rules选项卡中：

DRC Rules File：填入相关Dummy Metal rule文件；DRC Run Directory：填入后续生成gds文件的位置

步骤2：

Inputs选项卡中：

Run：建议选择Flat；这样后期修补dummy时比较方便（个人感受）；

Flat和Hierarchical区别：选择Flat时，生成的dummy文件是一个整体的cell文件；而选择Hierarchical时，生成的dummy文件是由很多dummy cell模块组成的。这里各位可以自己实际操作下就明白了。

步骤3：

Outputs 选项卡中：

DRC Results Database—File：将文件命名为“XXX_DM.gds”；Format：选择GDSII；Cell suffix：后缀栏填写“_DM”

步骤4：

点击Setup-DRC Options；在选项卡中选择“All”；

步骤5：

点击Run DRC，等程序运行结束后，回到步骤1设置的路径中，可以看到已经生成了“XXX_DM.gds”的文件。

步骤6：

打开CIW（Cadence Interaction Windows）窗口，点击File-Import-Stream…，弹出如下对话框；

Stream File：选择上述生成的“XXX_DM.gds”的文件；

Library：选择要导入的库（一般选择和需要填充版图相同的库）；

Technology-Attach Tech Library：选择对应项目用到的技术库；

最后点击Translate；等程序运行完，打开Library Manager 找到导入的库，会看到对应的Dummy文件已经生成。

步骤7：

回到需要填充的版图中，按“I”将步骤6中生成的dummy文件调入到版图中；选中dummy，按“q”，弹出如下对话框，将Origin:X与Y 改为：（0 0）。

（需要说明:填充完dummy后不代表DRC Density就一次性能过，还需要重新跑DRC来验证Density是否满足相关rule要求，正常还需要对填充dummy的文件进行修补。）

填充Dummy OD/PO步骤和填充Dummy Metal一样，但在Outputs选项卡中：DRC Results Database—File：将文件命名为“XXX_DODPO.gds” Cell suffix：后缀栏填写“_DODPO”

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