【新提醒】Mentor Tanner™ Tools 2019.2 + Crack for Windows - Layout讨论区 - EETOP 创芯网论坛 (原名：电子顶级开发网) -

西门子业务导师今天宣布，其坦纳™模拟/混合信号 （AMS） 设计工具 - 坦纳 S-Edit 示意图捕获工具和 Tanner L-Edit 布局编辑器现已获得台积电可互操作 PDK （iPDK） 认证，用于大容量模拟 IC 设计的广泛 TSMC 专业工艺技术。

导师的 Tanner AMS 设计工具进行了优化，可创建自定义模拟或"顶部模拟"混合信号集成电路 （ICs），工作在 22nm 及以上。许多领先的 IC 提供商使用 Mentor 的 Tanner 工具为包括汽车、可穿戴设备和工业物联网 （IOT） 细分市场在内的众多市场设计高度精密的 AMS 设备。

"世界上许多增长最快的市场越来越多地需要专门的 AMS 芯片，这些芯片可以无缝连接模拟和数字世界。导师的Tanner工具是专门设计的，以帮助IC设计师满足这一不断增长的需求，同时为创建高度创新的AMS设计提供一个理想的平台，"西门子业务导师集成电路设计系统总经理Greg Lebsack说。"我们为支持模拟IC设计的 TSMC 专业流程认证我们的 Tanner AMS 工具，这对我们的客户来说是个好消息，因为它能够更快地上市时间，并有助于将风险降至最低。导师的 Tanner AMS 解决方案和台积电的模拟 IC 设计专业流程对于我们共同的客户来说确实是一个成功的组合。

台积电的iPDK专业工艺技术帮助芯片制造商满足领先的AMS IC设计的具体要求。导师 AMS 工具现已获得铸造厂许多 iPDK 的认证，包括 22nm 超低功耗、28 纳米高性能计算、40 纳米混合信号技术，以及当今最先进的模拟 IC 的其他专业工艺技术。

台积电设计基础设施管理部高级总监苏力（Suk Lee）表示："我们与 Mentor 的持续合作有助于确保 EDA 解决方案和服务能够为我们的共同客户提供其成功的硅设计和专业节点制造所需的服务。"此次合作将台积电的专业工艺技术与 Mentor 先进的设计工具相结合，使我们的客户在广泛的细分市场（包括汽车、智能可穿戴设备和工业物联网）中取得创新成功。