①　在Cadence下：

File→Export→EDIF 200...→Browe选择文件→Output File 改名→OK

导出edif ，out后叫经理导入到共享，再从共享拉到桌面。

②　在ChipAnalyzer下：

文件→导出EDIF 200网表格式。

在D/Chiplogic Family/ChipAnalyzer/Bin下找到导出的网表文件。

在D/Chiplogic Family/ChipMaster/Project下复制多一个analogLib1，再建多一个数字电路的文件夹，只要Symbol。

③　在ChipMaster下：

新建单元库→导入***.out文件→删除多余单元→再导入***.edif文件→打开顶层文件。

设置顶层文件（右键→设置为顶层文件）→电路→显示线网列表窗口→全选后右键→自动标号化长引线...→填写引线长度阈值→回到顶层文件→调整间距→导出EDIF 200→放到共享上叫经理导入Cadence。

（去掉提图中的悬空线头：工具→选项→单元数阈值：0）

④　在Cadence下：

导入EDIF 200。

CIW窗口的Tools→Display Resource Manager...→Edit→Layers下选LSW→分别设置y1 drawing,y2 drawing,y3 drawing……的Line Style。

Edit→Search→Final

（先画上area层）Verify→DRC→设置Rules File文件（gate.rul）→OK

Tools→Technology File Manager...→Attach...

Edit→other→Move Origin

①　建立文件

单独建一个run LVS文件夹，在这个文件夹里导入版图的***.gds文件；电路的***.cdl文件；复制好规则文件***.lvs

①　vi ***.lvs改写两项

PRIMARY=版图文件名；

INDISK=版图文件名.gds；

②　LOGLVS

→Cir netlist（cdl文件名）→con ...（电路名）→x→PDRACULA→/g ***.lvs→/f→jxrun.com

③　vi lvs.lvs（打开lvs文件，检查错误）

①　Tools→Dracula Interactive，会出现DRC、LVS工具栏

②　LVS→Setup...

③　在Dracula Data Path中输出LVS的路径，会跳出View LVS选项卡

*Dracula修改版图后可直接jxrun.com跑LVS，修改电路需重新开始跑LVS。

Edit→Hierarchy→Make Cell...

Edit→Hierarchy→Flatten...

Edit→Other→Modify Corner...→chamfer（角）

Shift+X 退出：shift+B

X 退出：shift+B

Create→Layer Generation...→在这层的基础上 GROW BY距离 =需要生长层

Edit→other→Size→设置Size Value

Verify→Makes→Delete All...→OK

勾选Show Category→Category下建TOP

Library Manager下Edit→Library Path→OK→Edit→Add Library→选择Library→Save AS

create→Multipart Path→F3

Subrectangle：（中间孔的设置）

Layer:cont

Begin offset：-0.3（孔到包围线顶部距离）

End offset：-0.3（孔到包围线底部距离）

Width：0.8（孔的宽度） Length：0.8（长度）

Space：1.2（孔与孔的距离）

Separation：-1（孔中心到环中心线的距离，多排孔改这个距离即可）

Gap：minimum

Fustification:center（中心对称）

Enclosure Subpath：（外包层设置）

Layer：pplus

Begin offset：0.5 Enclosure：-0.5

End offset：0.5

→Apply→save.Template

（要有text层！）

Shift+S→Search for: label→Add Criteria→text==标号→勾选Zoom To Figure→Apply或者next

（在Dracula LVS时）View LVS→选中线→Cursor Pick

（只看不见，不删除！）

Library Manager下的Edit→Library Path→OK→选中其中一个Library→Edit→Remove Library Definition

在Library Manager下复制analogLib的电阻电容。

在CIW下：Tools→CDF→Edit→CDF Type：Base→Browse→选择复制到的Library下的电阻电容→下拉到Simulation Information→Edit→Choose Simulator：auCdl→修改Malel Name

添加图层：LSW下Edit→Set Valid Layers...→选Stretch dgþ→OK

版图窗口下：Tools→Pcell→Stretch→【Stretch in X（X方向拉伸）、Stretch in Y（Y方向拉伸）、Qualify（指定对象）、Modify（修改）、Redefine..（重新定义）】

Stretch in X——沿X方向拉伸（垂线）

Stretch in Y——沿Y方向拉伸（横线）

查看：Pcell→Parameters→Summarize

修改：Pcell→Stretch→Modify→选择Stretch线进行修改

保存：Pcell→Compile→To Pcell或点保存

Shift+T

Verify→Markers→Find...→勾选Zoom To Markers

复制Layout→To下的Library改成目标Library→勾选Copy Hierarchical 和Update Instances→OK→选Overwirte All（覆盖）或Fix Erros（命名）→OK

搜索：/NP→（大写N向上翻，小写n向下翻）查找所有NP→：%/NP/PM/g→：wq

range 指范围，1,7指第一行至第七行，1,$指从第一行至最后一行，就是整篇文章， 也可以%代替。%是目前编辑的文章，#是前一次编辑的文章。

pattern 指要被换掉的字串，可以用regexp来表示。

string 将Pattern由String所取代

c Confirm，每次替换前询问

e 不显示error

g globe，不询问，整行替换前询问

i ignore不分大小写。

LVS Options→Connect→勾选Connet nets with...(:)

在/home/lcm 0315下Vi .bashrc→复制/user/local/eda/……/license.dat到/home/lcm0315→回车运行

在做好的Library下：cell复制cell_copy→打散cell_copy→T2改成A2→新建Library→再复制打散的cell_copy到新Library下→在cell_copy上生长gate.rul（最好单独一层）→跑DRC→根据错误，在原Library的cell里改错→再重复转换步骤，如此往复，直到修改完成。